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  1. 学位論文
  2. 博士論文
  3. 学位授与年月日:2015.03.25

Study of Design Methodology of ASIC and FPGA Considering Correlation between Process Variation and BTI-Induced Degradation

http://hdl.handle.net/10212/2260
http://hdl.handle.net/10212/2260
4e63e067-d24e-4ddc-8b75-015685f53e72
名前 / ファイル ライセンス アクション
D1-0742_h1.pdf 全文 (409.2 KB)
D1-0742.pdf 内容・審査結果の要旨 (310.8 KB)
Item type 学位論文 / Thesis or Dissertation(1)
公開日 2017-07-03
タイトル
タイトル Study of Design Methodology of ASIC and FPGA Considering Correlation between Process Variation and BTI-Induced Degradation
言語 en
その他のタイトル
その他のタイトル プロセスばらつきとBTIによる劣化を考慮したASIC及びFPGA設計手法に関する研究
言語 ja
作成者 籔内, 美智太郎

× 籔内, 美智太郎

en Yabuuchi, Michitarou

ja 籔内, 美智太郎

Search repository
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 Reliability
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 electronics
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 bias temperature instability
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 BTI
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 process variation
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 large scale integration
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 LSI
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 design
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 reliability-aware design
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 circuit
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 simulation
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 analysis
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 degradation
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 prediction
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 BTI-aware netlist
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 ASIC
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 FPGA
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 MOSFET
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 Atomistic Trap-Based Model
主題
言語 en
主題Scheme Other
主題 Reaction-Diffusion Model
内容記述
内容記述タイプ Abstract
内容記述 We widely use LSIs (Large Scale Integrations) for many industrial products such as computers, mobile devices, automobiles, and medical instruments. LSIs are infrastructures for our current advanced information society. Hundreds of millions of transistors are integrated within a single chip through advances in the scaling. The progress of the scaling improves the economic development. LSIs play important roles in our society. LSIs must be reliable products. Reliability issues of MOSFETs (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors), such as BTI (Bias Temperature Instability) and process variations become dominant at the highly-scaled process. BTI is one of the most significant aging-degradations on LSIs. Threshold voltages of transistors are shifted by BTI for the long-term period of use. They result in circuit delays and unstable performances because their effects are not negligible and avoidable. In this study, the design methodology considering the correlation between process variations and BTI-induced degradations is proposed. The design margins of LSIs are reduced without threatening their reliability. The frequencies of ROs (ring oscillators) on ASICs and FPGAs are measured to analyze the reliability issues. The frequencies are varied by the process variations according to locations on the test chips. They follow the Gaussian distribution. The groups of the highest, average and lowest frequencies are focused on. The aging-degradations of the three groups are measured on the accelerated test. The correlation between process variations and BTI-induced degradations are examined. The degradation at the highest frequency group is larger than one at the slowest frequency group. The appropriate design margins are defined according to this nature.
言語 en
日付
日付 2015-03-25
日付タイプ Issued
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_db06
資源タイプ doctoral thesis
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
学位授与番号
学位授与番号 甲第742号
学位名
言語 ja
学位名 博士(工学)
学位授与年月日
学位授与年月日 2015-03-25
学位授与機関
学位授与機関識別子Scheme kakenhi
学位授与機関識別子 14303
言語 ja
学位授与機関名 京都工芸繊維大学
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Ver.1 2025-09-08 00:51:40.629181
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